목차 01차시 : 반도체 산업의 특징 및 Fab 라인 02차시 : Fab 내부구조 및 작업공간과 공정 흐름 03차시 : Fab 제조 공정의 설비와 배치 04차시 : 청정도 유지 및 관리 05차시 : 수율 및 생산성 향상 06차시 : Wafer 및 lot 구분 관리와 Fab 라인 운영 Tool 07차시 : Wafer 계측/검사 및 Recipe/Product 관리 08차시 : 작업자와 조직구조 및 Fab 직무 분류와 필요역량 (1) 09차시 : Fab 직무 분류와 필요역량 (2) 10차시 : Fab 장비 정지/재가동 절차 및 신규장비 인증과 생산규모 11차시 : 반도체 원가 개선활동 및 Wafer의 가격 영향 요인 12차시 : Wafer Scrap과 PCM 및 저수율 13차시 : 품질 관리 (1) 14차시 : 품질 관리 (2) 및 품질 검사 15차시 : 품질 관리 기법 7가지 도구 (1) 16차시 : 품질 관리 기법 신 7가지 도구 (2) 17차시 : 품질보증 (1) WLR 18차시 : 품질보증 (2) PLR 19차시 : 종합 반도체/Foundry/Fabless 비교 및 반도체 시장 20차시 : 반도체 제조기술의 Break through
수료기준 수료기준 표로, 항목, 반영비율, 과락기준으로 구성되어 있습니다. 항목 반영 비율 과락기준 진도 100.0% 80 중간평가 0.0% - 최종평가 0.0% - 과제 0.0% - 수료기준 진도 : 80% 달성 (필수) 총점 : 80 점이상 (필수)