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[반도체실무과정] Fab Operation & Production

[반도체실무과정] Fab Operation & Production의 이미지
온라인 초급
한경멤버스
  • 학습기간
    2025-07-01 ~ 2025-07-31 (30일)
  • 복습기간
    학습종료일로부터 12개월간
  • 지원기기
    PC/모바일
  • 수료기준
    총점 80점 (진도 80%)  자세히 보기
  • 0점
    0점 (0)
70,224원(VAT 없음)

과정소개

반도체 과정 중 Fab 과정

목차

  • 01차시 : 반도체 산업의 특징 및 Fab 라인
  • 02차시 : Fab 내부구조 및 작업공간과 공정 흐름
  • 03차시 : Fab 제조 공정의 설비와 배치
  • 04차시 : 청정도 유지 및 관리
  • 05차시 : 수율 및 생산성 향상
  • 06차시 : Wafer 및 lot 구분 관리와 Fab 라인 운영 Tool
  • 07차시 : Wafer 계측/검사 및 Recipe/Product 관리
  • 08차시 : 작업자와 조직구조 및 Fab 직무 분류와 필요역량 (1)
  • 09차시 : Fab 직무 분류와 필요역량 (2)
  • 10차시 : Fab 장비 정지/재가동 절차 및 신규장비 인증과 생산규모
  • 11차시 : 반도체 원가 개선활동 및 Wafer의 가격 영향 요인
  • 12차시 : Wafer Scrap과 PCM 및 저수율
  • 13차시 : 품질 관리 (1)
  • 14차시 : 품질 관리 (2) 및 품질 검사
  • 15차시 : 품질 관리 기법 7가지 도구 (1)
  • 16차시 : 품질 관리 기법 신 7가지 도구 (2)
  • 17차시 : 품질보증 (1) WLR
  • 18차시 : 품질보증 (2) PLR
  • 19차시 : 종합 반도체/Foundry/Fabless 비교 및 반도체 시장
  • 20차시 : 반도체 제조기술의 Break through

수료기준

수료기준 표로, 항목, 반영비율, 과락기준으로 구성되어 있습니다.
항목 반영 비율 과락기준
진도 100.0% 80
중간평가 0.0% -
최종평가 0.0% -
과제 0.0% -
수료기준
  • 진도 : 80% 달성 (필수)
  • 총점 : 80 점이상 (필수)

후기